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硅片清洗設(shè)備，硅片全自動清洗機應(yīng)用于集成電路，MEMS器件，微波器件，先進封裝等工藝。去膠清洗設(shè)備，顯影清洗設(shè)備，酸堿刻蝕機。也可用于零部件清洗，石英管道清洗，外延片清洗（砷化鎵，氮化鎵，碳化硅，鈮酸鋰等

刻蝕機，半導體刻蝕臺用于半導體芯片、襯底片的清洗及濕法腐蝕、去膠、去蠟、剝離等工藝的設(shè)備。