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硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng),芯片hmds烘箱

硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng),芯片hmds烘箱

簡(jiǎn)要描述:

硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng),芯片hmds烘箱用在芯片、晶圓、硅片等半導(dǎo)體在光刻前對(duì)wafer進(jìn)行預(yù)處理,在高溫高真空的狀態(tài)下均勻噴灑霧狀“OAP"藥液并在氮?dú)獗Wo(hù)下烘干以增強(qiáng)wafer的光刻性能。

硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng),芯片hmds烘箱的作用:      

   用于芯片、晶圓、硅片等半導(dǎo)體在光刻前對(duì)wafer進(jìn)行預(yù)處理,在高溫高真空的狀態(tài)下均勻噴灑霧狀“OAP”藥液并在氮?dú)獗Wo(hù)下烘干以增強(qiáng)wafer的光刻性能。通過(guò)對(duì)烤箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng),芯片hmds烘箱技術(shù)參數(shù):

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:2000W

溫度范圍:RT+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動(dòng)度:±0.5℃

達(dá)到真空度:133Pa

工作室尺寸(mm):450*450*450,550*550*300(可定做)

外形尺寸(mm):650*650*950

擱板層數(shù):2層

真空泵:旋片式油泵(可選配進(jìn)口干泵)

特點(diǎn):

1、預(yù)處理性能更好,由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有著更好的處理效果。JS-HMDS預(yù)處理系統(tǒng)箱體外殼采用高級(jí)不銹鋼制作,內(nèi)膽為316L醫(yī)用不銹鋼材料制成;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。

2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片,可處理2寸、4寸、6寸、8寸晶圓片等

4、更加節(jié)省藥液,實(shí)踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多;

5、 更加環(huán)保和安全,整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)材料制造,無(wú)發(fā)塵材料,適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境。HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激呼吸道等,由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。

6、JS-HMDS預(yù)處理系統(tǒng)帶有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。
7、具有低液位報(bào)警,防泄漏,尾氣處理等功能。

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